接触式紫外光刻系统:UV-KUB2

UV-LED光源系统

曝光和掩膜系统 UV-KUB 2是国际市场上第一个可用的UV-LED掩膜系统。UV-KUB 2是一种紧凑的接触式光刻系统,配备有基于LED的光学头准直且均匀

其对准功能分辨率可达2µm以下。该系统与任何最流行的光刻胶兼容,例如AZ系列,Shipley系列,SU-8和K-CL系列。

  • 光源

    UV-LED冷光源更耐用

  • 设计

    结构紧凑美观

  • 操作

    触摸屏控制更方便

  • 光强

    4寸均匀性优于5%

  • 价格

    高性价比更亲民

技术指标

  • 分辨率 :2µm
  • 波长 :365nm或405nm
  • 功率密度:40毫瓦/平方厘米
  • 曝光过程中的基材温升:<1°C
  • 曝光周期: 1s-18h
  • 可编程循环数   10
  • 尺寸:260 x 260 x 260毫米
  • 重量: 8.2公斤
  • 彩色触摸屏 :5.7寸
  • 电源:110V / 230V-50Hz / 60hz
  • 消耗功率  180W

应用领域

微电子学

微纳光学

表面微结构

微流控